1樓：匿名使用者
一.光學鍍膜材料（純度：99.9%-99.9999%）
1. 氧化物 《技術指標》
一氧化矽，二氧化鉿，二氧化鋯，二氧化鈦，一氧化鈦，二氧化矽，三氧化二鈦
五氧化三鈦，五氧化二鉭，五氧化二鈮，三氧化二鋁，三氧化二鈧，三氧化二銦
二氧化矽，二鈦酸鐠，二氧化鈰，氧化鎂，三氧化鎢，氧化釤，氧化釹，氧化鉍
氧化鐠，氧化銻，氧化釩，氧化鎳，氧化鋅，氧化鐵，氧化鉻，氧化銅
2. 氟化物 《技術指標》
氟化鎂，氟化鑭,氟化鐿，氟化釔，氟化鏑，氟化釹，氟化鉺，氟化鏑，氟化鉀 氟化鍶,氟化釤,氟化釹，氟化鈉，氟化鋇，氟化鈰
3. 金屬類 《技術指標》
4. 混合料 《技術指標》
氧化鋯氧化鈦混合料，氧化鋯氧化鉭混合料，氧化鈦氧化鉭混合料
氧化鋯氧化釔混合料，氧化鈦氧化鈮混合料，氧化鋯氧化鋁混合料
氧化鎂氧化鋁混合料，氧化銦氧化錫混合料，氧化錫氧化銦混合料
氟化鈰氟化鈣混合料
5. 其他化合物 《技術指標》
鈦酸鋇，鈦酸鐠，鈦酸鍶，鈦酸鑭，硫化鋅，冰晶石，硒化鋅，硫化鎘
氮化矽，碳化矽，碳化矽，碳化鉿，氮化鈦，氮化鋁，二硼化鈦，二硼化鋯
2樓：匿名使用者
tio2,sio2,zro2,h4,mgf2,zis,al2o3,zro3,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,
真空鍍膜和光學鍍膜有什麼區別
3樓：胡說八道小鬼
一、概念的區別
1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。
二、原理的區別
1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固並沉積的方法。
2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是藉助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，塗鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。
隨著鐳射技術的發展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬頻增透膜的發展。為各種應用需要，利用高反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜後，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分佈，這是干涉鍍膜的基本原理。
三、方法和材料的區別
1、真空鍍膜的方法材料：
(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。
(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.
3pa，然後將陰極接上2000v的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。
(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。
(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。
2、光學鍍膜方法材料
(1)氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度高，用其製備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。
(2)二氧化矽：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其製備高質量si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。
(3)氧化鋯：白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫效能，化學性質穩定，純度高，用其製備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。
真空鍍膜問題，真空鍍膜鍍不上的原因
膜 鬼 1，冷卻水的冷卻效果降低了，可能是冷卻水堵塞或部分堵塞2，dp泵的溫控器壞了，例如實際100度的時候，它判斷為200度，所以報警了 以上可能性比較大 dp泵工作原理為，油在蒸發時粘稠的油蒸汽噴射帶走空氣，油冷卻迴流，而空氣被排走了。真空鍍膜鍍不上的原因 林凡天 那個濺射靶材一切完好，電源都是...
光學鍍膜是做什麼的啊，真空鍍膜和光學鍍膜有什麼區別
胡說八道小鬼 一 概念的區別 1 真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件 金屬 半導體或絕緣體 表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁 真空鍍鉻等。2 光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層 或多層 金屬 或介質 薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少...
真空度對真空鍍膜的影響，真空度對真空鍍膜的影響？
月似當時 真空度高，則真空鍍膜質量較好。各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由於源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用範圍，無論是金屬 金屬合金 金屬間化合物 陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。以真空技術為基礎...