1樓：冰楓伊
光刻機是晶元製造的核心裝置之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於led製造領域的投影光刻機。
用於生產晶元的光刻機是中國在半導體裝置製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高階光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶元生產的裝置。
二、工作原理。
在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後對映到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準**、後烘、顯影、硬烘、雷射刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、**。越複雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的**控制過程。
2樓：莬熊
光刻機又稱眼膜光刻機又稱掩模對準**機，**系統，光刻系統等。光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準**、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等。
3樓：網友
製作我笑了，中國成千上萬的工程師，研製了幾十年都沒有研究成功，
4樓：科技風景線
光刻機制造，原理簡單，難點卻很多。
光刻機怎麼製作（最好提供**）？
5樓：迷途羔羊
第一步：製作光刻掩膜版（mask reticle）
晶元設計師將cpu的功能、結構設計圖繪製完畢之後，就可將這張包含了cpu功能模組、電路系統等物理結構的「地圖」繪製在「印刷母板」上，供批量生產了。這一步驟就是製作光刻掩膜版。
光刻掩膜版：（又稱光罩，簡稱掩膜版），是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過**過程將圖形資訊轉移到產品基片上。
百科）將設計好的半導體電路」地圖「繪製在由玻璃、石英基片、鉻層和光刻膠等構成的掩膜版上。
光刻掩膜版的立體切片示意圖。
第二步：晶圓覆膜準備。
從砂子到矽碇再到晶圓的製作過程點此查閱，這裡不再贅述。將準備好的晶圓（wafer）扔進光刻機之前，一般通過高溫加熱方式使其表面產生氧化膜，如使用二氧化矽（覆化）作為光導纖維，便於後續的光刻流程：
第三步：在晶圓上「光刻」電路流程。
使用阿斯麥的「大殺器」，將紫外（或極紫外）光通過蔡司的鏡片，照在前面準備好的積體電路掩膜版上，將設計師繪製好的「電路圖」**（光刻）在晶圓上。（見**）：
上述**的工作切片層級關係如下：
光刻機照射到部分的光阻會發生相應變化，一般使用顯影液將**部分祛除。
而被光阻覆蓋部分以外的氧化膜，則需要通過與氣體反應祛除。
通過上述顯影液、特殊氣體祛除無用光阻之後，通過在晶圓表面注入離子啟用電晶體使之工作，進而完成半導體元件的全部建設。
做到這裡可不算大功告成，這僅僅是錯綜複雜的積體電路大廈中，普通的一層「樓」而已。完整的積體電路系統中包含多層結構，電晶體、絕緣層、佈線層等等：
搭建迷宮大廈一般的複雜積體電路，需要多層結構。
多次重複上述操作之後，晶元的多層結構搭建完畢（下圖）：
如果上圖看的不太明白，可以看看intel的cpu晶元結構堆疊圖：
當然，我們可以通過高倍顯微鏡來觀察光刻機「燒製」多層晶圓的堆疊情況：
第四步：切蛋糕（晶圓切割）
使用光刻機燒製完畢的晶圓，包含多個晶元（die），通過一系列檢測之後，將健康的個體們切割出來：
從晶圓上將乙個個「小方塊」（晶元）切割出來。
第五步：晶元封裝。
將切割後的晶元焊。
光刻機是幹什麼用的
6樓：胡老師談科技
光刻機是晶元製造的核心裝置之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於led製造領域的投影光刻機，同時用於生產晶元的光刻機是中國在半導體裝置製造上最大的短板。
光刻機（maskaligner)又名：掩模對準**機，**系統，光刻系統等。咐歷頃常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫maskalignmentsystem.
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對衡陸準**、後烘、顯影、硬烘、刻爛返蝕等工序。photolithography（光刻）意思是用光來製作乙個圖形（工藝）；在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時「複製」到矽片上的過程。
光刻機是幹什麼用的
7樓：
摘要。光刻機的作用是用於製造晶元、電路板等產品。
光刻機的作用是用於製造晶元、電路板等產品。
光刻機是用來將設計圖形轉換為電路板上的積體電路（ic）的專用裝置。它是一種加工衫喊喚技術，可以在電路板上刻出指定的圖形。它通常使用光敏薄膜，將設計的圖案投射到滲慧光敏膜上，或凱然後將**的圖案放置在酸性的溶液中，使圖案蝕刻到電路板的表面上。
它有助於準確地完成複雜的圖案，可以用於製造晶元、電路板等產品。
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