1樓：yj的晶晶
2023年美國孟山都公司在世界上首先提出了二氧化矽溶膠和凝膠應用於矽晶圓片的拋光加工的專利。從此，半導體用拋光液（slurry）成為了半導體制造中的重要的、必不缺少的輔助材料。半導體矽片拋光工藝是銜接材料與器件製備的邊沿工藝，它極大地影響著材料和器件的成品率，並肩負消除前加工表面損傷沾汙以及控制誘生二次缺陷和雜質的雙重任務。
在特定的拋光裝置條件下，矽片拋光效果取決於拋光劑及其拋光工藝技術。隨著積體電路的整合度的不斷提高，相應的要求亦有所提高，不但直徑要增大，技術要求也相應地提高，並不斷有新的要求出現。
採用sio2拋光液進行矽片拋光加工，目前多采用化學機械拋光（cmp）技術。拋光工藝中有粗拋光和精拋光之分，故有粗拋光液和精拋光液品種之分。預計在2023年-2023年期間，在我國半導體拋光片業內整體需求拋光液量，每年會以平均增長率為25%比率的增長。
2023年間使用sio2拋光液總共約是157噸。其中粗拋液有約126噸, 精拋液有約31.5噸。
目前在我國半導體矽拋光片加工中，所使用的拋光液絕大多數都靠進口。國外半導體矽拋光液的市場佔有率較高生產廠家，主要有美國rodel & onden nalco、美國的dupont公司、日本fujimi公司等。儘管我國目前在拋光液行業現已發展到有幾十家的企業，但是真正涉足到半導體矽片拋光液製造、研發方面的企業很少。
無論是產品質量上、還是在市場佔有率方面，國內企業都表現出與國外廠傢俱有相當的差距。
2樓：匿名使用者
產品適用範圍： led藍寶石，光纖介面，泵元件，液晶玻璃，石晶片底，相機鏡頭，影印機反光鏡，記錄光碟，水晶玻璃製品，顯微鏡載玻片，反光鏡，發動機配件，印刷電路板，墊片，壓縮機配件，刀片，活塞環，閥門板，軸承圈，散熱片，剎車片，起閥器，壓縮硬碟模板，寶石等。 裝置包括：
製造銷售裝置類：平面研磨機.平面拋光機.
雙面研磨機.雙面拋光機.金相研磨機.
橫向研磨機. 消耗品類: 1:
.拋光液.潤滑油 2：
合成鐵盤.合成銅盤.錫盤.
純錫盤. 3: .
拋光布.水性研磨膏.水油兩用研磨膏------ 誠明精密--------email：
玻璃拋光液種類有？
3樓：明誠地坪
拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和奈米金剛石拋光液）、氧化矽拋光液（即cmp拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化矽拋光液等幾類。 多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。
主要應用於藍寶石襯底的研磨、led晶片的背部減薄、光學晶體以及硬碟磁頭等的研磨和拋光。 氧化矽拋光液（cmp拋光液）是以高純矽粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。
廣泛用於多種材料奈米級的高平坦化拋光，如：矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。 氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級ceo2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分佈均勻、硬度適中等特點。
適用於高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、積體電路光掩模等方面的精密拋光。 是以超細氧化鋁和碳化矽微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。
主要用於高精密光學儀器、硬碟基板、磁頭、陶瓷、光纖聯結器等方面的研磨和拋光。
拋光液都有哪些成分？
4樓：匿名使用者
拋光液不含任何硫、磷、氯新增劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油汙，防鏽，清洗和增光效能，並能使金屬製品超過原有的光澤。產品效能穩定、無毒，對環境無汙染等優點。
拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和奈米金剛石拋光液）、氧化矽拋光液（即cmp拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化矽拋光液等幾類。
5樓：糯米香酥脆
拋光液有氧化鋁拋光液，氧化矽拋光液，金剛石拋光液，碳化矽拋光液等，拋不同材質工件用不同材質拋光液，可以到福吉電子**瞭解下
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